CN2017101187536
2017-02-28
发明专利
一种基于芳杂环并-2-S,S-二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用
华南理工大学
已授权
本发明公开了一种基于芳杂环并?2?S,S?二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用。本发明通过Suzuki聚合反应得到所述的基于芳杂环并?2?S,S?二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物。本发明基于芳杂环并?2?S,S?二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物具有较好的溶解性,采用常见有机溶剂溶解后,再通过旋涂、喷墨打印或印刷成膜,制备得到发光二极管的发光层。基于该聚合物的发光层用于制备发光器件时不用退火处理,使得制备工艺更简单。